平面抛光相关论文
以往在管焊缝探伤中,工作人员是直接将探头的底平面磨成与所测管件曲率相同的圆弧。这样不仅损伤探头,也严重影响了探头的正常工作......
随着材料科学的飞速发展及光机电一体化技术的进步，各种功能陶瓷材料在电子计算机、激光、通讯、计时等领域得到了越来越广泛的应用......
基于Preston方程，分析了磨削速度、磨削时间与磨削量的函数关系。在大平面机械抛光的运动学分析基础上，综合磨削速度、磨削时间共同......
研究设计了一种基于圆柱滚子平面推力轴承的新型桌面级精密平面抛光机转台。阐述了转台的总体结构设计,对偏载情况下抛光盘支撑结......
抛光是获得超精密表面的重要手段。在平面抛光过程中,抛光垫类型对应不同的抛光工艺参数,抛光垫的修整精度直接影响工件面形精度,......
基于集群磁流变效应超光滑平面抛光理论及研制的试验装置，对单晶SiC基片进行了平面抛光试验研究。研究结果表明，金刚石磨料对单晶SiC......
<正>近年来,随着信息电子技术、光电技术及半导体照明技术的迅速发展,超光滑平面元器件需求越来越大,这些表面要求达到亚纳米级表......
修正环型抛光机用于超精密平面抛光 ,并对沥青抛光进行了运动学分析。基于得到的方程式 ,发现在相同条件下 ,计算出的抛光量和平面......
基于磁流变效应和集群原理提出集群磁流变效应平面抛光技术，对磁极排布方式、端面形状及其尺寸的磁场特性进行静磁场有限元分析优化......
介绍了平面研磨抛光轨迹均匀性的研究方法,详细阐述了双轴式(包括定偏心式和不定偏心式)、直线式、摇摆式、计算机控制小工具式单......
基于动态磁场集群磁流变平面抛光的加工机理以及动态磁场作用机理,对单晶硅基片进行动态磁场集群磁流变抛光试验研究。结果表明：动......
随着微电子、光电子技术的发展需求,对光学玻璃、单晶硅、工程陶瓷等硬脆材料的加工精度和表面质量也提出了越来越高的要求,一般需......
