抛光压力相关论文
随着光电子微电子技术的发展和应用，第三代半导体材料SiC成为该领域研究和关注的焦点，SiC优异的物理化学性能使之广泛应用于新一代电......
为了研究纳米抛光碳化硅时压力变化对表面的影响规律,建立了金刚石磨粒纳米抛光碳化硅的分子动力学模型,数值模拟了纳米尺度下的碳......
通过对柳埠红花岗石磨削、抛光加工的实验研究,得出了柳埠红花岗石最佳精磨磨削压力和最佳抛光加工工艺参数.结果表明,柳埠红花岗......
以喷油嘴喷孔为研究对象,采用k-ε模型、Mixture模型对磨粒流抛光过程中流场分布规律进行数值模拟,通过仿真模拟试验探索了在一定......
在对硬盘基板CMP机理进行分析后，采用河北工业大学研制的计算机硬盘抛光专用碱性抛光液，选择氧化剂添加量、抛光压力两个重要参数分......
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目前大米抛光机在国内应用已十分广泛,而如何减少增碎,提高米粒完整率和表面光亮度则是更加值得关注的问题。在这里就影响大米抛光......
采用工业机器人进行大口径光学元件的研抛过程中,机器人自身定位误差会导致研抛压力产生波动,进而影响去除函数稳定性,为此提出了......
随着光电技术的发展，越来越多形貌复杂的光学元件被应用于医疗、航空、国防等领域。人们对于光学元件加工质量也提出了更高的要求，如......
硬质材料精密球是各种精密测量仪器中的重要元件,在精密工程领域发挥着重要的作用。精密球体加工机是硬质材料精密球加工的重要设......
针对高精密球体抛光机床压力加载控制中,存在的加压精度低、抗干扰能力差等问题,提出了基于模糊PID控制策略的压力加载控制系统;分......
双面抛光机广泛用于硅片、蓝宝石、陶瓷、磁性材料、电子器材的表面超光滑无损伤的平整加工。气动加载系统是双面抛光机实现精密抛......
