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304不锈钢是柔性显示器基板的理想材料,改善它的表面质量是将其应用于下一代软性显示器技术的前提。化学机械抛光(Chemical Mechan......
设计了4种不同形状的抛光头，并使用自制的磁流变抛光液体在三轴数控铣床上对K9平面玻璃进行了磁流变抛光工艺试验．分析了在不同的磁......
在模具的维修和制造过程中,用合金磨头和砂轮修磨模具的形状后,最后要用细砂布进行表面打光.市场上所销售的表面抛光工具,其抛光头......
半导体制造技术已经达到了亚微米技术水平，CMP（chemical mechanical planarization）化学机械抛光是IC制造工艺中进行全局平坦化唯一的......
论述了用于激光陀螺仪、旋光片抛光的MPM-700光学零件抛光平台的主要结构及特点。介绍了该设备在传动方式、台面选型优化、抛光头......
日本BMC抛光头套装,编号MCP010,一套3个打磨头,分别是粗目、细目、极细目三种,轴径为2.34毫米,打磨头直径为23毫米,打磨头厚度为15......
针对碳化硅光学元件已有的化学机械抛光、磁流变抛光、电化学抛光和催化剂辅助抛光等方式存在材料去除率低、成本高等问题,提出机......
随着5G时代的临近,在当今社会朝着无人化、机械化、人工智能自动化发展的大浪潮下,超精密加工不仅仅在工业制造领域,更在物流通信,......
各种类型弯管内表面的精整、光整加工一直是超精密加工的难题。关于这个棘手难题,长期以来倍受国内外专家学者的普遍关注。本文对......
在芯片微细化和互连多层化趋势下,化学机械抛光(Chemical mechanical polishing,CMP)成为集成电路制造的核心技术。针对300 mm晶圆......
