掺钼氧化铟相关论文
用反应蒸发法制备的掺钼氧化铟(In2O3:Mo,IMO)薄膜在可见光区域的平均透射率(含1.2 mm厚玻璃基底)超过80%,电阻率最低达1.7×1......
虽然采用常规的热反应蒸发法就可以在约350 ℃的玻璃基底上制备出性能优良的In2O3∶Mo(IMO)薄膜,但是随着基底温度的降低,IMO薄膜......
用直流磁控溅射法成功制备了高价态差掺钼氧化铟(IMO)透明导电薄膜.研究了氧分压,基板温度以及溅射电流对IMO薄膜结构和性能的影响......
采用van-der-Pauw法、等离子振荡波长法和光谱拟合法等三种方法对IMO(In2O3∶Mo)薄膜和ITO(In2O3∶Sn)薄膜的载流子迁移率进行了测......
在实用的透明导电氧化物(TCO)薄膜中,载流子迁移率主要是受电子与掺杂离子之间散射的限制.如果掺杂离子与氧化物中被替代离子的化......
