曝光强度相关论文
为了探究掺杂有菲醌的聚甲基丙烯酸甲酯(PQ/PMMA)光致聚合材料的光学特性,根据该全息聚合材料基本理论以及内部的光化学反应机制与......
目前，传统的光盘存储与磁存储技术已经逐渐接近物理极限，其存储密度和存储容量仍然满足不了现代社会的需要，于是人们把目光投向了一门......
对光敏计算机直接制版（CTP）性能相关参数进行了研究，从曝光强度这个方面考察光敏CTP版材的成像质量的影响。用海德堡紫激光计算机直接......
本文利用MonteCarlo方法及优化的散射模型,对电子束光刻中电子在抗蚀剂中的散射过程进行了模拟,通过分层的方法,对厚层抗蚀剂不同......
为了研究采用由曙红做染料、丙烯酰胺和亚甲基双丙烯酰胺构成的光致聚合物制成的全息透射光栅的曝光特性,用实验的方法探索了光栅......
曝光系统是接触接近式光刻机的核心部件,系统的曝光强度对光刻工艺有很大的影响。通过对曝光光路系统进行详细分析,对影响光强的各......
针对卤化银感光材料潜影形成过程中光作用动力学问题,分析了曝光强度对光生载流子行为和电子陷阱效应的影响,认为伴随着曝光强度的......
目的探讨牙种植区不同曝光强度放射直视影像(RVG)骨密度测量结果比较及在牙种植中对颌骨质量的评估。方法76例患者82个拟种植区域,......
