氮氧化硅薄膜相关论文
本文对采用管式等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法沉积的氮化硅与氮氧化硅(SiyNx/SiOxNy)叠层膜进行了实验研究,结果表明:在硅片......
采用甚高频等离子体增强化学气相沉积方法制备富硅氮氧化硅(a-SiO0.35N0.59∶H)薄膜, 以这层薄膜作为有源层构建发光二极管。实验......
优化晶体硅材料的光学特性,可有效提高晶体硅太阳能电池的光电转换效率。采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法,在钝化发射极和......
研究了用等离子体增强化学气相沉积方法，经过后处理制备出ＳｉＮｘＯｙ薄膜，测量了其光致发光特性，观测到强度大约为多孔硅薄光发射１０倍的蓝光和紫外......
采用甚高频等离子体增强化学气相沉积方法制备富硅氮氧化硅(a-SiO0.35N0.59∶H)薄膜,以这层薄膜作为有源层构建发光二极管。实验结......
利用红外吸收 (IR)谱和 X射线光电子谱 (XPS)对富氧氮氧化硅 (oxygen- rich Si Ox Ny)及其在 6 0 0、75 0和90 0℃下退火后样品的......
