深硅槽相关论文
在集成电路技术中,深硅槽主要用于双极集成电路中的隔离以及DRAM中的电容制作.由于双极集成电路中的工作电流大,深硅槽隔离技术对......
提出采用离子注入方法提高主掩膜光刻胶的耐干法腐蚀和腐蚀窗口硅的腐蚀速率，实现了在比较简陋的干法腐蚀设备上采用反应离子腐蚀模......
