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硅片电阻率相关论文
基于正则化算法的硅片电阻率测量方法研究
在大规模的集成电路生产中,以硅为基础材料的芯片的尺寸逐步减小,集成的程度不断提高。为了保证集成电路性能的稳定,硅片需要具备......
学位
硅片电阻率
正则化
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牛顿迭代
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外加电场对于金属辅助化学刻蚀工艺影响的研究
硅是半导体行业最重要的材料,通过金属辅助化学刻蚀方法制备硅的微纳米结构以其工艺简单、成本低廉、生长参数易于控制等优点得到......
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金属辅助化学刻蚀
外加电场
刻蚀形貌
刻蚀速率
硅片电阻率
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