本论文采用PE-PLD技术和PE-CVD技术，以Si基片为衬底对晶态CN薄膜制备进行了实验探索，主要探讨不同工艺条件和CN化合物薄膜的结构特性......

使用等离子体增强化学气相沉积（PE—CVD）的方法，以TTIP（Ti（OC3H7）4）为单体，用氧气为载气，以脉冲偏压为辅助在室温的玻璃基片上沉积无定型TiO......