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介绍了一种晶圆上厚胶边缘的去除方法(7~20μm),结合化学去除和边缘曝光二者的优势。与现有技术相比,缩短了厚胶边缘光刻胶去除的时间,通......
摘 要:微电子领域应用的先进封装技术包括凸点互连技术、再布线、倒装片、3D堆叠等,而光刻与电镀工艺流程是先进封装技术中的重要环......