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远紫外光刻相关论文

精密远紫外光刻中的对准优化

随着芯片特征尺寸的减小,光刻成像技术的不断提高,而关键尺寸(CDs)的缩小则产生了更为精确的套刻精度.这些套刻精度在已随着工作台......

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精密远紫外光刻套刻精度剩余误差曝光设备成像技术测量信息位置测量特征尺寸曝光过程对准模型计算关键尺寸对准系统有价值新方法光对准工

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