钨离子相关论文
钨由于具有特别优良的物理化学和工程热物理性（如高熔点,低溅射率以及低氘氚滞留率等）而被作为磁约束反应堆（如ITER,EAST,ASDEX Upgra......
光电离过程是光与原子、离子相互作用的最基本的过程之一。研究光电离过程对原子物理、等离子体物理以及天体物理等都有非常重要的......
针对从钼酸铵溶液中深度除钨这一技术难题,通过添加不同的试剂,对钼酸铵溶液中含钨高的问题进行了试验研究,提出了两种新的除钨方......
根据全相对论组态相互作用(RCI)方法和多组态Dirac-Fock(MCDF)方法1,考虑量子电动力学(QED)效应和Breit修正,选取重要的电子组态,......
钨因其高熔点和高溅射能量阈值、低溅射速率和低氘/氚滞留率而被选为磁约束聚变反应堆（如ITER,EAST和CFETR等）的偏滤器和面壁材料。......
本文采用钨离子改性TiO2 溶胶,通过控制钨离子的掺杂量,可实现TiO2 纳米晶微结构和性能的可控制备。结果表明,掺入钨离子后,能显著......
本文针对当前钨冶炼过程中采用离子交换工艺生产APT时，产品中容易出现锡超标的现象做了较为深入的研究。在建立痕量锡的分析方法之......
双电子复合过程作为一种重要的电子和离子非弹性碰撞现象之一，是一种很重要的原子动力学过程。该过程将对建立等离子体的电离平衡以......
双电子复合(DR)过程是电子和离子碰撞过程中最基本的物理过程之一,对等离子体的电离平衡的建立和维持以及对等离子体布居都起着主......
采用金属蒸汽真空弧（MEVVA）离子源发出的强束流脉冲钨离子，对H13钢进行了离子注入表面改性研究。借助X射线光电子能谱仪（XPS）考察了注入......
利用透射电子显微镜弱束成像技术研究了钨离子注入经１１５０℃固溶处理的奥氏体不锈钢（１Ｃｒ１８Ｎｉ９Ｔｉ）的横截面样品，发现离子辐照引发被注入材料亚结构变化......
The electrochemical reaction mechanism and electrocrystallization process of tungsten in the NaCl–KCl–NaF–WO3molten s......
该发明提供了在钢板上电镀具有优良耐蚀性和焊接性的Zn—Co—W合金电解液。该电解液组成如下：氯化锌60～200g／L；氯化钴0．1～6．0g／L；钨离子0．1～4．0......
采用由金属蒸气真空弧(MEVVA)离子源引出的强束流脉冲钨离子对Hl3钢进行了离子注入表面改性研究.借助掠面X射线衍射(GXRD)和X射线......
目的 进一步改善氮化钛薄膜的摩擦学性能。方法 利用金属蒸汽真空弧源（MEVVA）在离子镀TiN薄膜表面进行等剂量W、Mo离子注入。采用扫......
采用三电极体系,应用方波伏安法分析NaCl-KCl-Na2WO4共融体系的电化学特性,重点研究了钨（Ⅵ）离子的电化学行为,结果表明：W（Ⅵ）→W（Ⅳ）还原......
