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在用VHF-PECVD 技术沉积大面积硅基薄膜中，最主要的问题是大面积的均匀性，而影响薄膜均匀性的主要因素是电极上电场分布的均匀性。本文对VHF 频段电场分布进行了分析，认为当激发频率在VHF 频段时驻波和损耗波对电场均匀性分布影响很大，而通过选择不同的电源馈入方式可以减小它们的影响，所以电源馈入方式是解决问题的关键。根据实际情况，本文采用中心馈入法，对馈线和电极的连接方式进行了仔细研究，并通过工艺调试，研制出了面积为23×24cm2，最高沉积速率5.5./s，不均匀性<±10％的非晶硅薄膜材料。