【摘 要】
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采用离子束复合磁控溅射技术在硬质合金上制备了不同缓冲层厚度的类金刚石薄膜.采用纯W靶作为溅射源,溅射气体为Ar,通过改变沉积时间(10、20、30min)来调节不同缓冲层厚
【机 构】
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中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室、浙江省海洋材料与防护技术重点实验室,中国科学院宁波材料技术与工程研究所,浙江宁波 315201
【出 处】
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第十届全国表面工程大会暨第六届全国青年表面工程论坛
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采用离子束复合磁控溅射技术在硬质合金上制备了不同缓冲层厚度的类金刚石薄膜.采用纯W靶作为溅射源,溅射气体为Ar,通过改变沉积时间(10、20、30min)来调节不同缓冲层厚度,厚度在180-550nm之间改变；离子束碳源采用C2 H2.通过Raman、XRD、纳米压痕仪、残余应力仪、场发射扫描电镜、对薄膜结构成分、硬度弹性模量、残余应力、表面形貌及厚度等进行表征；利用划痕仪(压头半径100μm)、摩擦磨损试验机对其界面断裂韧性及其结合性能进行测试.由薄膜划擦形貌及成分测试分析发现：缓冲层厚度对类金刚石薄膜结构影响不大；硬度、残余应力及结合性能影响较大,研究发现缓冲层厚度存在最佳值时,可使其机械性能达到最优；当缓冲层厚度在350nm时,膜基结合性能由未添加缓冲层时的9.1N提高到了添加过渡层时的17N.
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