PET （聚对苯二甲酸乙二醇酯）薄膜具有优良的物理和化学特性,在工业材料中占有重要位置,广泛应用于电子、电器、磁记录、感光胶片、射线片、包装和印刷等工业领域。光致抗蚀干膜是用于光刻术的感光材料，光刻术是集成电路和超大规模电路制造中一种最重要的技术之一。PET薄膜为光阻层的载体，起保护作用，主要是隔绝氧气、分层和避免机械划伤。PET膜在曝光之后显影之前除去，防止曝光时氧气向抗蚀剂层扩散，引起感光度下降。因此，PET薄膜的性能对干膜生产起到重要的作用。本论文对光阻干膜用PET薄膜生产工艺及其性能做了研究分析，同时对比分析研究了干膜用PET薄膜的关键性能，提出了光阻干膜用PET薄膜性能要求规格。为光阻干膜行业选用PET薄膜提供了重要依据。其次通过对PET薄膜在光阻干膜生产工艺过程中存在的张力不良、欠点过多、等问题进行分析研究，经过生产试验分析得出以下结论：在光阻干膜生产时，针对有张力不良PET薄膜，使用90N展开张力可克服PET薄膜张力不良对于光阻干膜的涂层的影响；同时，用低粘度光阻干膜产品型号涂布，PET薄膜张力不良的影响程度会更低。针对PET薄膜气泡问题，使用低线速可降低欠点率，光阻干膜品质越好。光阻干膜用PET薄膜不合适做电晕或底涂表面处理。通过对光阻干膜生产工艺参数的优化，降低了PET薄膜缺陷对干膜生产的影响，达到了提升干膜产品品质的目标，为企业节约了成本，具有良好的经济效益。