论文部分内容阅读
对版图扫描场分割方式进行了研究，详细论述了ｍ×ｎＳ形扫描场分割方式和任意扫描场分割方式。
LSIC版图扫描场分割方式的研究
【摘 要】
：
对版图扫描场分割方式进行了研究，详细论述了ｍ×ｎＳ形扫描场分割方式和任意扫描场分割方式。
【机 构】
：
山东工业大学自动化工程系
【出 处】
：
微细加工技术
【发表日期】
：
1999年4期
其他文献
详细介绍了如何在微机上实现ＪＢＸ－６ＡⅡ型可变矩形电子束曝光机的数据格式转换工作。在熟悉通用图形数据ＣＩＦ格式和专用图形数据ＪＥＯＬ５１格式的基础上，对如何实现ＣＩＦ格式到ＪＥＯＬ５１格式的转换作了论述，并给出了
描述了可编程相位光栅光带结构微机械特性中的频响特性与回复时光带瞬态行为研究的原理,并介绍了相应的仿真结果.光栅样机采用硅微机械技术加工而成,其测试结果表明,光栅样机
在分析光刻胶光栅浮雕图形缺陷成因的基础上，首次将光刻胶灰化工艺引入到全息－离子束刻蚀制作闪耀光栅工艺中，并成功地为国家同步辐射实验室光化学站制作了１２００１／ｍｍ，闪耀波长为１３０ｎｍ的锯齿槽形
介绍了一种新型的微机械硅弹簧的设计和制作,运用能量方法推导出了弹性常数的计算公式,并用有限元模拟分析方法求出了其固有频率.有限元模拟工具AN-SYS模拟的结果验证了弹性
研究了在平整的玻璃上制作微管道的方法和玻璃-玻璃键合技术：讨论了腐蚀条件对玻璃的腐蚀速率和微管道表面形貌的影响。玻璃键合采用热键合，键合温度为620℃，得到的键合面剪切强
本文基于作者提出的“函数逼近的数值迭代概念”，修正了电磁复合场中电子成像系统的三级几何像差方程式，给出了具有更高精度的像差计算公式和用集中参数形式描述的像差系数表达
本文概述了新型超硬材料氮化碳的提出，发现及物化性质，目前国内外研究最新进展和应用前景。
利用灰阶编码掩模实现光学邻近效应精细校正是改善光刻图形质量的有效方法，设计并利用电子束直写系统加工了实现邻近效应校正的灰阶编码掩模，首次在投影光刻系统上用这一方法实
研究了用ＣＦ４或乙醇作为反应气体，Ａｒ作为气体添加剂对ＩＴＯ膜进行反应离子刻蚀，讨论了射频放电功率，反应室气压，Ａｒ的流量对刻蚀速率的影响，得出了最佳工艺条件，并从理论上分析了刻蚀的机理。研究
软Ｘ射线投影光刻能够制作出特征线宽小于０．１μｍ的线条。激光等离子体源的研究是软Ｘ射线投影光刻中几项关键技术之一。本文报道了１３ｎｍ投影光刻用激光等离子体软Ｘ射线源。