电子回旋共振相关论文
随着科技发展的需要,人们对传感器应用方面的要求越来越高,高灵敏、低成本、易制造的传感器成为研究者努力克服的壁垒。其中石墨烯......
光电传感器作为工业机器的神经元部件,在高速非接触式信息采集和系统响应处理中地位举足轻重。光电类传感器的研究伴随新材料的发......
本文用电子回旋共振(ECR)等离子体辅助射频溅射沉积法制备快锂离子传导的锂磷氧氮薄膜.X射线光电子能谱、扫描电子显微镜等手段表......
该文简要描述了一台频率为２．４５ＧＨｚ的电子回旋共振（ＥＣＲ）等离子体源的特性测试，表明放电室内的等离子体密度和电子温度与静态磁场，微波输入功率和真......
采用电子回旋共振(ECR)氢等离子体发生系统清洗n型4H—SiC(0001)表面,利用原位高能电子衍射(RHEED)对处理过程中表面微结构进行实......
本工作利用时间和空间分辨的等离子体光谱测量和分析方法研究了对Al靶烧蚀产生的PLA铝等离子体和对N2气ECR微波放电产生的ECR氮等......
本文重点报告近代物理所近几年自行研制并投入使用的两台高电荷态ECR(电子回旋共振)离子源以及正在建造的一台双频微波加热ECR离子......
采用电子回旋共振等离子增强化学气相沉积(ECR-PECVD)方法，以SiH4和H2为气源，在普通玻璃衬底上沉积多晶硅薄膜。利用XRD、Raman光谱......
该文简要描述了一台频率为2.45 GHz 的电子回旋共振(ECR)等离子体源的特性测试，表明放电室内的等离子体密度和电子温度与静态磁场、......
在自行设计研制的先进电子回旋共振(ECR)等离子体增强化学气相沉(PECVD)装置上,采用"ECR-PECVD"可控活化低温外延技术,以SiH4+H2......
电子回旋共振放电产生的等离子体在微电子工业中材料加工、空间电推进方面有着广泛的应用。为了研究微波等离子体电子回旋共振的放......
采用微波电子回旋共振等离子本增强化学气相沉积技术在单晶硅衬底上制备用于平面光波导的SiO薄膜，研究了沉积速率与工艺参数这间的......
叙述了电子回旋共振（ＥＣＲ）微波等离子体技术的基本工作原理、主要特点以及发展概况，着重从ＥＣＲ等离子体实验系统、工艺应用、诊断技术和机理研......
本文建立了一个物理模型，编写了数值程序，模拟了微波电子回旋共振（ＥＣＲ）等离子体流的特性。假定等离子体中的电子服从玻尔兹曼关系，离子在从......
研究了线圈、多极混合磁位形ECR等离子体及刻蚀特性。静电探针测量结果表明，在φ200mm，φ100mm范围内等离子体离子流强径向不均匀性......
利用高等离子体密度、高电子温度和高离化率的ECR微波等离子体增强二极溅射、磁控溅射反应沉积金属氨化物薄膜。实验结果表明，ECR微......
本文使用电子回旋共振等离子体增强化学沉积方法生长ＧａＮ。利用气体分配器产生一种局域高反应物浓度环境，在此环境下，测量了等离子体的电......
以纯铁和 38CrMoAl为例给出了用电子回旋共振微波等离子体氮化的实验结果 ,并给出了气体成分及配比、时间、温度、偏压等工艺参数......
以超高纯Ｔｅ 和重复区熔法获得的超高纯Ｃｄ 为原料，用改进的气相物理输运法制备了高质量的ＣｄＴｅ单晶．改进的ＰＶＴ 有效地抑制了生长安瓶封装时产生的......
着重介绍采用一段真空波导耦合的ECR微波等离子体装置，以及在CH4－H2混合气体放电情况下，诊断了内部等离子体参数，给出了等离子体密度、......
利用电子回旋共振微波放电氮等离子体对单晶硅表面进行了低温大面积氮化的探索 ,通过样品表征和等离子体成分探测 ,分析讨论了氮化......
采用微波电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积技术 ,在单晶硅衬底上制备了用于平面光波导的SiO2 薄膜 ,研究了沉积速率与工艺参......
人工合成超重元素任重而道远 1996年初德国达姆斯塔特重离子研究所的12名科学家着手合成112号元素,他们用电子回旋共振离子源产生......
基于热力学平衡理论 ,对在电子回旋共振等离子体增强金属有机化学气相沉积系统中的 Ga N薄膜生长给出了一个化学平衡模型 .计算表......
研究了微波电子回旋共振等离子体化学汽相沉积低温氮化硅薄膜在５—１０６Ｈｚ频率范围内的介电性能．由于低温氮化硅薄膜为具有分形结构的纳米非......
技术的革新使科学家能够以不断增加的步速,从试验、仿真及观测中收集数据,数据容量已从近来的十亿字节、千兆字节,达到现在的万亿......
随着机械工程技术的发展,人们对自动控制过程中的精度要求与速度要求越来越高,而光电传感器具备非接触、可靠性高、高精度、反应快......
为了寻求日益昂贵的电推力器工质氙气的替代品,探讨氩气作为电子回旋共振离子推力器工质的适用性,采用混合PIC方法模拟了氩等离子......
本文应用电子回旋共振微波等离子体化学气相沉积方法(ECR-CVD)进行了一维纳米材料的制备.以Fe304纳米粒子为催化剂,采用不同的气源......
利用红外光谱技术研究了微波电子回旋共振( ECR)等离子体化学气相沉积 ( CVD)法在低温条件下制备的 Si Nx 膜的键结构和氢含量 ,分......
微波输入技术是电子回旋共振离子推力器的关键技术之一,输入微波在推力器放电室内产生谐振的时候,微波功率才能高效地被吸收,从而......
利用自制的ＥＣＲ（电子回旋共振）微波等离子体溅射沉积装置，在氮气分压很低的条件下（２．６× １０－３～２．９ × １０－２Ｐａ）成功地获得了透明绝缘的纯氨化铝膜。电阻率达１０１１ ·......
采用国内研制的电子回旋共振化学气相沉积设备(ECRCVD),在单晶硅片上沉积出了金刚石薄膜。通过扫描电子显微镜(SEM),X 射线衍射仪(......
研究了微波电子回旋共振－化学气相沉积ＳｉＮｘ薄膜的光学性能，这种ＳｉＮｘ薄膜具有透光谱宽、透光率高的特点，总结了透光谱、折射率、光隙能随微波功......
ZnO薄膜可以具有压电性和透光导电性两种不同性质，取决制备中的不同沉积条件。本文介绍采用微波电子回旋共振（ECR）等离子体反应溅射制......
介绍了一种采用DECR等离子体在低温下制备高质量SiO2薄膜的PECVD工艺。讨论了DECRPECVD工艺中气相O／Si原子比以及沉积速率对SiO2薄......
用微波ＥＣＲ等离子体溅射技术制备透明导电ZnO（Ａ１）膜的工艺中，氧气和氩气的流量、膜的生长温度等因素相互制约并严重影响着膜的光电性能．实验......
用电子回旋共振等离子体增强的化学汽相沉积法 ,在单晶硅衬底上外延生长出了近于10 0 μm2 的单晶金刚石薄膜。使用的原料气体是高......
用紫外 可见光透射光谱 (UV VIS)并结合键结构的X射线光电子能谱 (XPS)和红外谱 (FTIR)分析 ,研究了电子回旋共振等离子体增强化......
本文利用六甲基乙硅氧烷(HMDSO)和氧气(O2)为反应气体,利用微波电子回旋共振-射频双等离子体化学气相沉积法沉积氧化硅薄膜,并利用......
以Ar+SiH_4作为反应气体,用电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR PECVD)方法制备微晶硅薄膜,研究了微波功率对薄膜中H含量、薄膜......
