硅腐蚀相关论文
氢氟酸(HF)/硝酸(HNO3)/水(H2O)体系对硅片的腐蚀非常复杂,腐蚀机理与酸液的配比有关.影响酸液腐蚀硅片的因素有酸液比例、溶液温......
HF/HNO3/H2O体系在多晶硅太阳能电池制备中占有重要的地位.以前对于硅片在HF/HNO3/H2O体系中的反应已经做了大量的研究.本文测量了......
本文提出一种以丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)薄膜作为各向异性腐蚀溶液的掩模的薄膜保护方法.ABS胶以旋涂法涂布在硅片表面,然后经过......
研究表明:AgAlGe作为硅功能器件硅与钼连续用的焊料,具有较低的焊温度,较高的结合界面的熔轮温度以及对硅腐蚀少的特点。研究还表明:在硅与钼......
In this paper,a novel and reliable structure of the side passivated emitter and the rear locally-diffused(PERL)silicon l......
在低阻硅(1-10Ω.cm)衬底上采用XeF2硅腐蚀工艺成功制备了长度为2 mm、结构尺寸为w/s=40/60μm间断悬浮和全悬浮两种结构的共面波导......
本文重点是研究在p─—n结自致停腐蚀中引起不稳定的各种因素、各种电极系统的适用性,以及白金对电极界面电位的变化规律,从而有助于正......
叙述了硅基传感器微机械加工的特点和要求,简要说明了硅衬底微细加工的常用方法,并以高过载双向压力传感器和悬空结构热释电传感器的......
提出一种以丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)薄膜作为各向异性腐蚀溶液的掩模的薄膜保护方法.ABS胶以旋涂的方法涂布在硅片表面,然后经过......
本文阐述了HNO3—HF—H2SO4—HAC四元素硅片腐蚀的方法,研究了各组份对硅和钼腐蚀的影响。结果表明,该溶液对钼的腐蚀仅为常用腐蚀......
研究了硅片在富硝酸的HF/HNO3/H2O体系中的腐蚀规律。随着腐蚀反应的进行,反应分5个阶段,在开始的5min内硅片腐蚀量较大,然后反应......
湿法腐蚀清洗设备湿区对洁净度有严格要求,流场分布对其影响很大,通过 Fluent 对湿区的流场进行分析,建立流场数值模型和几何模型并对......
本文首次分析了(100)硅在乙二胺——邻苯二酚水溶液(EPW)中进行各向异性腐蚀时所可能出现的白色残留物的化学组份。该残留物的生成......
湿法腐蚀清洗设备是集成电路、LED、太阳能、MEMS等芯片制造中必不可少的工艺设备,而为了更好的达到腐蚀效果,在各种腐蚀工艺中往......