Cu-W薄膜相关论文
本文运用离散小波变换(DWT)法研究磁控溅射铜钨薄膜表面特征随溅射时间的演变.提出了一种基于小波变换表征生长薄膜表面形貌的......
采用双靶磁控溅射沉积Cu-W合金薄膜,通过XRD、TEM和HRTEM等方法分析沉积薄膜组织结构及其演变规律。在沉积初期,Cu-W薄膜呈非晶态,......
Cu-W薄膜具有高导热导电性及低的热膨胀系数等优点,广泛应用于微电子及电子器件领域。但铜和钨互不固溶、浸润性差,常规方法很难制......
磁控溅射制备铜钨薄膜 ,用原子力显微镜和功率谱密度法分析薄膜生长表面形貌的分形维数 ,发现频段的选择基本不影响分形维数与溅射......
提出了一种基于小波变换描述薄膜表面形貌的方法 .运用离散小波变换法研究磁控溅射Cu W薄膜表面特征随溅射时间的演变 .结果表明 ,......
本文运用离散小波变换(DWT)法研究磁控溅射铜钨薄膜表面特征随溅射时间的演变.提出了一种基于小波变换表征生长薄膜表面形貌的方法......
采用双靶磁控溅射沉积Cu-W合金薄膜，通过XRD、TEM和HRTEM等方法分析沉积薄膜组织结构及其演变规律。在沉积初期，Cu-W薄膜呈非晶态，随......
本文运用离散小波变换(DWT)法研究磁控溅射铜钨薄膜表面特征随溅射时间的演变.提出了一种基于小波变换表征生长薄膜表面形貌的方法......
以不同温度真空原位退火工艺为手段，促使制备在单晶Si（100）和Al2O3基底上的Cu-W薄膜发生相变。用X射线衍射（XRD）分析晶体取向，偏振相位移......
为得到最佳性能的磁控溅射Cu-W薄膜,采用磁控溅射技术在玻璃片上沉积Cu-W单层膜。采用电子探针测试薄膜中W含量,采用X射线衍射仪、......
