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采用集成电路工艺模拟软件ＳＳＵＰＲＥＭ４ 模拟了氧化、扩散工艺， 并同实验值进行了比较，模拟值和实验值的偏差在１０％ 以内。与集成电路器件模拟软件Ｓ－ＰＩＳＣＥＳ联......
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