浸没式光刻技术相关论文
浸没式光刻技术是当前唯一实际应用在45nm以下集成电路生产线上的技术,通过浸没单元在硅片和投影物镜之间维持折高射率的液体,提高光......
2002年之后,浸没式技术迅速成为光刻技术中的新宠.因为此种技术的原理清晰及配合现有的光刻技术变动不大,获得了人们的极大赞赏.......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
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1曝光设备当前,在半导体器件生产中,用于65nm制程的器件已进入量产,而用于45nm制程也已成熟,即将进入量产期。
1 exposure equipm......
介绍了下一代光刻技术的演变,重点描述了浸没式光刻技术、极端远紫外光刻技术、纳米压印光刻技术和无掩模光刻技术的基本原理、技......