【摘 要】
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光刻曝光系统的分辨率决定集成电路图形的特征尺寸。离轴照明技术可提高光刻曝光系统的分辨率并增大焦深。利用衍射光学元件与变焦距准直透镜组配合可实现环形照明、双极照明
【机 构】
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上海大学; 中国科学院上海光学精密机械研究所;
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<正>光刻曝光系统的分辨率决定集成电路图形的特征尺寸。离轴照明技术可提高光刻曝光系统的分辨率并增大焦深。利用衍射光学元件与变焦距准直透镜组配合可实现环形照明、双极照明、四极照明等多种离轴照明模式。实际中,光学元件及照明系统等的装调误差会影响光瞳质量,即实际光瞳与设计值之间存在差异,如椭圆度、极平衡性、四象限性等。通过检测瞳面上照明光瞳的光强分布,可反向得到装调偏差,进而调整光刻机光瞳整形单元达到最优工作状态。现有光瞳多参数检测方法是基于相对远心的,依据均方根(RMS)评价函数最小值
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