【摘 要】
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采用四弧源直流溅射沉积设备在血管支架上制备了TiO2薄膜,重点研究了支架表面薄膜厚度、支架内外表面薄膜差异及支架两种变形方式下薄膜的力学性能.支架表面积利用精密MES电子天平称得质量计算得到,薄膜厚度通过薄膜质量与支架表面积的关系求得；用X-射线电子能谱(EDX)分析了支架内外表面薄膜成份及含量；对支架压缩、撑开过程变形量大、应力集中单元筋进行研究,用扫描电子显微镜(SEM)来观察薄膜是否有破坏.
【机 构】
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西南交通大学材料科学与工程学院材料先进技术教育部重点实验室,成都610031 深圳市金瑞凯利生物科
【出 处】
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2007两岸三地博士生NBIC学术论坛
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采用四弧源直流溅射沉积设备在血管支架上制备了TiO2薄膜,重点研究了支架表面薄膜厚度、支架内外表面薄膜差异及支架两种变形方式下薄膜的力学性能.支架表面积利用精密MES电子天平称得质量计算得到,薄膜厚度通过薄膜质量与支架表面积的关系求得；用X-射线电子能谱(EDX)分析了支架内外表面薄膜成份及含量；对支架压缩、撑开过程变形量大、应力集中单元筋进行研究,用扫描电子显微镜(SEM)来观察薄膜是否有破坏.结果表明,在该工艺下支架表面薄膜厚度趋于15.73nm,支架内外表面薄膜颜色光泽、均匀,薄膜附着性良好,在支架压缩和撑开过程中,应力大的单元筋表面没有观察到薄膜的开裂、剥落,薄膜的力学性能可靠.
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