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文章研究了多弧离子镀制备Ti-N膜的重要工艺参数：磁场、弧电流、偏压和氮气流量对膜层质量的影响，详细了它们的影响膜层特性的原因。实验证明：提高弧电流的同时，抑制液滴的产生，是提高膜层质量，提高生产率的有效途径。
制备高质量Ti-N膜的多弧离子镀
【摘 要】
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文章研究了多弧离子镀制备Ti-N膜的重要工艺参数：磁场、弧电流、偏压和氮气流量对膜层质量的影响，详细了它们的影响膜层特性的原因。实验证明：提高弧电流的同时，抑制液滴的产生，是
【机 构】
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北京8917信箱
【出 处】
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1999年第二届表面工程国际会议
【发表日期】
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1999年期
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