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会议论文
平面热线型气敏元件Pt加热电阻研制
平面热线型气敏元件Pt加热电阻研制
来源 :第七届全国湿度与水分学术交流会暨第五届气湿敏学术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sweetorange888
【摘 要】
:
硅片经清洗后,用热氧化法生长SiO〈,2〉,并溅射Pt膜,刻蚀出所需的Pt电阻图形,经热处理,减薄、分割后,作为平面热线型气敏元件加热电阻。通过实验,分析了影响Pt与SiO〈,2〉附着力的因素、溅射条件和热
【作 者】
:
孙承松
周立军
王哲
李云鹏
【机 构】
:
沈阳工业大学电子系
【出 处】
:
第七届全国湿度与水分学术交流会暨第五届气湿敏学术交流会
【发表日期】
:
1998年期
【关键词】
:
平面热线型
气敏元件
热处理条件
热氧化法
溅射条件
加热电阻
膜制备
膜性能
附着力
图形
实验
清洗
刻蚀
硅片
分割
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硅片经清洗后,用热氧化法生长SiO〈,2〉,并溅射Pt膜,刻蚀出所需的Pt电阻图形,经热处理,减薄、分割后,作为平面热线型气敏元件加热电阻。通过实验,分析了影响Pt与SiO〈,2〉附着力的因素、溅射条件和热处理条件对Pt膜性能的影响,并确定了Pt膜制备的最佳条件。
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