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沟道应力对纳米尺度MOSFET器件特性的影响
沟道应力对纳米尺度MOSFET器件特性的影响
来源 :第十四届全国半导体集成电路、硅材料学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:kjtx123
【摘 要】
:
利用ISETCAD器件模拟工具,本文模拟了纳米尺度的MOSFETs器件沟道中存在应力时的器件特性,通过模拟我们分析了应力大小和方向发生变化对MOSFET的阈值电压、亚阈特性、开关态电
【作 者】
:
吴涛
刘晓彦
杜刚
康晋锋
韩汝琦
【机 构】
:
北京大学微电子学系
【出 处】
:
第十四届全国半导体集成电路、硅材料学术年会
【发表日期】
:
2005年期
【关键词】
:
沟道
应力对
纳米尺度
器件特性
模拟工具
开关态电流
阈值电压
亚阈特性
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利用ISETCAD器件模拟工具,本文模拟了纳米尺度的MOSFETs器件沟道中存在应力时的器件特性,通过模拟我们分析了应力大小和方向发生变化对MOSFET的阈值电压、亚阈特性、开关态电流等器件特性的影响.
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