随着科学技术的逐渐发展,在制造业,铸造业等行业中的作业条件愈趋极端,这就对使用工具的品质提出了更高的要求。要求工具表面有好的耐磨性、抗腐蚀性和抗氧化性。在工具表面镀上一层硬质薄膜能够恰好的解决这个问题。硬质薄膜的制备方法有物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)。而物理气相沉积中又分为真空蒸发镀膜、磁控溅射镀膜和电弧离子镀镀膜三类。本论文的研究工作主要有两个部分,第一个是以磁控溅射法制备TiN薄膜为例,来进行磁控溅射设备的安装,调试和初步实验。等离子体增强磁控溅射设备的核心部分是热导丝的放电,本设备以磁控溅射为基础,设备主要有真空系统,电路系统,溅射系统组成,设备调试的关键是在于,调整一定的氮气和氩气的比例,在电路系统能承受的范围内进行高效率的沉积薄膜,最后应用此设备试制了氮化钛薄膜,确保这个真空系统的稳定性和可复制性,从而为工业生产提供足够、可靠的依据。第二部分是对于失效的氮化钛薄膜进行退除薄膜的研究。在碱性溶液(NaOH)环境下配合双氧水(H2O2)、葡萄糖酸钠(GA)、十二烷基磺酸钠(SDS)、三聚磷酸钠(STPP),可有效的使工具钢表面TiN薄膜脱落且不影响基体的二次镀膜。在NaOH与二水合柠檬酸三钠作为电解液,采用电化学方法能够推出Cr N薄膜。实验表征方法有扫描电子显微镜(SEM)来观察薄膜的结构,台阶仪来测量薄膜的厚度,X射线衍射仪(XRD)来了解薄膜的相组成以各组元成分,显微硬度仪来检测基体以及镀覆上薄膜后基体硬度。实验结果表明磁控溅射设备真空仓为1M3,采用单靶溅射,控制溅射速率在磁滞回线内,Ar:N2=80:7,电流为5A,靶电压为385V,灯丝电流在4A时,能结合成致密金黄色TiN薄膜。