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面内场对含Lu样品中硬磁畴稳定性的影响
面内场对含Lu样品中硬磁畴稳定性的影响
来源 :河北师范大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:woainiyuying
【摘 要】
:
该文实验研究了含Lu样品中的硬磁畴(含Lu样品中只能产生OHB和ID)在面内场作用下行为.首先,实验研究了直流偏场"整形"和面向场交替作用下普通硬磁泡畴壁中VBL的消失;其次,该文
【作 者】
:
耿翠玉
【机 构】
:
河北师范大学
【出 处】
:
河北师范大学
【发表日期】
:
2001年期
【关键词】
:
磁畴壁
垂直布洛赫线
面内场
硬磁畴
直流偏场
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该文实验研究了含Lu样品中的硬磁畴(含Lu样品中只能产生OHB和ID)在面内场作用下行为.首先,实验研究了直流偏场"整形"和面向场交替作用下普通硬磁泡畴壁中VBL的消失;其次,该文还研究了Lu样品中的ID在面内场作用下的行为;最后,研究了直流偏场和面内场联合作用下哑铃畴的自发缩泡现象.
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