论文部分内容阅读
介绍了移相掩模技术的基本原理,对几种主要的移相掩模技术进行了比较,指出了各种移相方式的特点和应用局限性,并针对100nm分辨率的技术节点,阐述了各种移相方式在应用中应该解决的问题.
100nm分辨率的移相掩模技术
【摘 要】
：
介绍了移相掩模技术的基本原理,对几种主要的移相掩模技术进行了比较,指出了各种移相方式的特点和应用局限性,并针对100nm分辨率的技术节点,阐述了各种移相方式在应用中应该
【机 构】
：
中国科学院微电子所纳米加工与新器件集成技术实验室
【出 处】
：
微细加工技术
【发表日期】
：
2003年4期
其他文献
根据各向异性湿法刻蚀针尖的自锐效应模型和晶面交点模型, 设计了AFM探针针尖加工工艺流程,并进行了针尖加工实验.通过分析实验结果并结合晶面交点模型,分别得到了针尖形状与
介绍了一种压电型微悬臂梁的制作工艺流程,重点研究了其中硅的反应离子刻蚀(RIE)工艺,分析了工艺参数对刻蚀速率、均匀性和选择比的影响,提出通过适当调整气体流量、射频功率
介绍了用于电子束缩小投影曝光机的标记对准模拟软件及标记图形，模拟出标准对准的背散射信号，并与实际实验信号图形进行了对比。
研制成功了一种实用的低功函数肖特基发射阴极一锆/钨（ZrO/W）阴极。这种阴极是在改进的电解腐蚀法制成的W单晶尖端表面，采用特别的涂覆法或蒸镀法，形成含zrO膜层，并经特殊处理后得
采用sol-gel方法制备了PZT铁电厚膜,构成了SiO2/Si/SiO2/Ti/Pt/PZT/Ti/Pt形式的拾振器敏感元结构.基于半导体光刻技术,通过干法刻蚀电极和化学湿法刻蚀PZT厚膜等技术,成功地
采用表面改性的方法,以双十八烷基二硫代磷酸盐(DDP)为表面改性剂,制备了双十八烷氧基二硫代磷酸盐(DDP)表面改性的FeS纳米微粒.采用TEM,DSC,XRD和FTIR对表面改性FeS纳米微粒
介绍了一种自主开发的复杂微光刻图形版图绘制系统.该系统能根据用户的要求自动成组地批处理各种圆环、螺旋线、椭圆环、扇形、条形码等图形,以及根据用户输入的任意表达式来
针对微拉伸测试系统支撑梁因塑性变形带来的误差，采用UV—LIGA技术制备出S型支撑弹簧来代替刚性梁，这样即可测量大变形薄膜的力学性能。实验结果表明，用UV—LIGA工艺制备的Ni金
Ⅰ线光致抗蚀剂可以同时实用电子束和光学系统曝光，在50kV加速电压下，其曝光剂量为50-100μC/cm^2，曝光后在0.7%NaOH溶液内显影1分钟。其灵敏度比PMMA快5倍，分辩率为0.5μm。采用
采用负偏压增强热丝化学气相沉积(CVD)方法,在沉积有MFe催化剂层及Ta或Ti过渡层的Si衬底上,通过改变沉积条件制备出不同结构的碳纳米管.扫描电子显微镜的研究结果表明,当过渡