【摘 要】
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在配有液Ｎ２冷却Ａｓ快门的分子束外延设备中利用迁移增强外延（ＭＥＥ）方法于低温下生长了ＧａＡｓ／Ａｌ／ＧａＡｓ结构材料。俄歇测量结果表明，用ＭＥＥ方法生长的材料中Ａｌ和ＧａＡｓ之间的互扩散大大减小，在５００℃热处理后也没有引起多大
【机 构】
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中国科学院表面物理国家实验室,中国科学院半导体研究所
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在配有液Ｎ２冷却Ａｓ快门的分子束外延设备中利用迁移增强外延（ＭＥＥ）方法于低温下生长了ＧａＡｓ／Ａｌ／ＧａＡｓ结构材料。俄歇测量结果表明，用ＭＥＥ方法生长的材料中Ａｌ和ＧａＡｓ之间的互扩散大大减小，在５００℃热处理后也没有引起多大的互扩散。我们还发现在高指数ＧａＡ５（１１３）Ｂ面上用ＭＥＥ方法生长ＧａＡｓ薄膜效果更好。
GaAs / Al / GaAs structure materials were grown at low temperature using a Migration-Enhancement Epitaxy (MEE) method in a molecular beam epitaxy apparatus equipped with a liquid N2 cooled As shutter. Auger measurements show that the mutual diffusion between Al and GaAs in the MEE-grown material is greatly reduced and does not cause much interdiffusion after heat treatment at 500 ° C. We also found that growing the GaAs thin film by the MEE method on the GaAs (113) B high index surface is better.
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