【摘 要】
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用150瓦连续波CO_2激光束照射硅片,观察到了其氧化层错的消除现象,并对消除机理进行了探讨。
A 150-watt continuous wave CO2 laser beam was used to irradiate the silic
【机 构】
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南开大学,南开大学,南开大学,南开大学
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用150瓦连续波CO_2激光束照射硅片,观察到了其氧化层错的消除现象,并对消除机理进行了探讨。
A 150-watt continuous wave CO2 laser beam was used to irradiate the silicon wafer, and the elimination of oxide layer faults was observed. The elimination mechanism was also discussed.
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