640×480TFT—AMLCD有源层的制备

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：qmhnfi77206

【摘要】

：

从理论上分析了ａ－Ｓｉ：Ｈ薄膜晶体管有源层－ａ－Ｓｉ：Ｈ薄膜的光电特性，厚度及淀积均匀性，稳定性，重复性对ＴＦＴ工作性能的影响，并根据此分析，在实验的基础上对ａ－Ｓｉ；Ｈ淀积工艺进行了优化，找到了最佳淀积工艺，并介绍了

【作者】

：

葛长军靳在渊

【机构】

：

成都电子科技大学光电子技术系

【出处】

：

半导体学报

【发表日期】

：

1999年3期

【关键词】

：

TFT-AMLCD 液晶显示器有源层制备

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从理论上分析了ａ－Ｓｉ：Ｈ薄膜晶体管有源层－ａ－Ｓｉ：Ｈ薄膜的光电特性，厚度及淀积均匀性，稳定性，重复性对ＴＦＴ工作性能的影响，并根据此分析，在实验的基础上对ａ－Ｓｉ；Ｈ淀积工艺进行了优化，找到了最佳淀积工艺，并介绍了淀积室电极结构。用此工艺，作者在美制备出高质量的６４０×４８０象素的ａ－Ｓｉ；Ｈ薄膜晶体管－有源矩阵液晶显示器，其对比度为１００：１，灰度２４级，开口率大于５０％，开关比大于１×１０

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