【摘 要】
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一、前言随着器件的高集成化、高速化和高功能化,器件表面台阶越来越陡峭。特别是进入亚微米时代,由于微细化和高电流密度的要求,金属布线的纵横尺寸比明显增大。所以,在扩展光刻
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一、前言随着器件的高集成化、高速化和高功能化,器件表面台阶越来越陡峭。特别是进入亚微米时代,由于微细化和高电流密度的要求,金属布线的纵横尺寸比明显增大。所以,在扩展光刻极限的同时,从提高产品成品率、可靠性上来说,平坦化技术是一项极为重要的技术课题。图1示出
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