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低应力金属膜相关论文

磁控溅射制备低应力金属膜的工艺研究

　　本文研究了在磁控溅射中溅射气压、溅射电压(溅射功率)与金属Au、Ta薄膜应力的关系,分析了相关的机理,给出了一种用磁控溅射法......

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磁控溅射溅射制备低应力金属膜溅射气压溅射功率溅射电压产生因素薄膜应力机理方法法制

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