溅射电压相关论文
磁控溅射是七十年代发展起来的一种新型溅射技术[1]、[2]、[3],目前已经在科研和生产中实际应用。磁控溅射与一般溅射相比,具有高......
采用活化溅射方法,在不同溅射电压条件下,在NiTi形状记忆合金表面成功制备出了纳米TiO2生物薄膜.采用台阶轮廓仪和拉曼光谱仪研究......
采用直流反应磁控溅射法，通过精确控制反应溅射电压优化了氧化钒薄膜的制备工艺。对制备的氧化钒薄膜，利用四探针测试仪检测了薄膜的......
利用射频共溅射方法制备了一系列Co-Ta-O介质颗粒膜,用X射线能量色散谱和X射线光电子谱分析了薄膜的成分和元素价态,用X射线衍射测......
研究了用微波ＥＣＲ等离子体反应溅射制备透明导电氧化锌薄膜靶压及铝的掺入对薄膜电阻率和透光率的影响。制香电阻率为１０＾－５Ω．ｍ数量级，可见光平......
