光化学气相沉积相关论文
在氢化无定形半导体膜的制造上,一般采用冲击放电等等离子化学气相沉积法。由于高能粒子的冲击,使半导体膜表面或内部形成等离子......
首先合成高结晶度的BiOBr纳米片,然后利用光化学气相沉积(PCVD)法将不同含量的Pd纳米粒子沉积在BiOBr纳米片上.运用N_2-物理吸附-......
中国真空学会薄膜专委会化学气相淀积学组于1987年9月24～27日在无锡召开了第二届全国CVD学术讨论会。会议由学组正、副组长王季陶......
本文综述了光化学气相沉积(Photo-CVD)法分解硅烷(SiH_4、Si_2H_6)制备非晶硅(a-Si)膜的简单原理、a-Si 膜的性质、a-Si 和微晶硅(......
近年，作为固体表面一项新的低温成膜工艺，光化学气相沉积已经取得了显著进展。本文从光化学原理角度出发，介绍了光化学气相沉积反应的......
