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微电子机械系统(Micro Electro-Mechanical Systems MEMS)制造中，等离子体刻蚀已经成为最关键的流程之一并日渐受到人们的关注，因为......
对于上下电极双射频源的电感耦合（ICP）等离子体刻蚀设备的关键工艺参数——下电极射频偏压的变化特性进行了实验与物理定性分析．实验......
采用微波电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积(ECR-PECVD）技术在单晶衬底上制备了SiO2薄膜，研究了射频偏压对薄膜特性的影响。通过......
制备绝缘性能良好的 Al2 O 3薄膜是研制薄膜热电偶瞬态温度传感器的关键技术之一.针对直流脉冲磁控溅射制备的 Al2 O 3绝缘薄膜总......
射频感应耦合等离子体(Inductively Coupled Plasma,简称为ICP)在等离子体辅助工艺中有着广泛的应用。近些年来,人们在ICP中的基板......
