溶液沉积法相关论文
为了解决哈氏(Hastelloy C-276)合金基带表面粗糙度过大造成不平整的问题,采用溶液沉积平整化技术在哈氏合金表面制备Y2O3非晶薄膜......
在双轴织构的Ni-5%W合金基带上,采用高分子辅助化学溶液沉积法通过提拉涂敷法,制备了厚度达250nm的Sm_(0.2)Ce_(0.8)O_(1.9)(SCO)......
介绍了ＳｒＢｉ２Ｔａ２Ｏ９系列层状钙钛矿铁电薄膜的结构、性能、制备方法以及研究进展。
The structure, properties, preparation methods and res......
用化学溶液沉积法在Ｓｉ衬底上制备了Ｌａ０．５Ｓｒ０．５ＣｏＯ３(ＬＳＣＯ)导电薄膜．Ｘ－射线衍射结果表明退火温度６００℃可以使ＬＳＣＯ薄膜晶化,薄膜没有明显的择优取向并呈单一的钙钛矿......
因为Y系超导体比Bi系超导体具有更好的本征高场特性，所以，尽管Bi系材料已能制成长带并有了广泛的应用，但人们仍然竞相研究开发Y系超导......
本文采用高分子辅助化学溶液沉积(PACSD)的方法,在双轴织构的Ni-5%W合金基底上制备了Sm0.2Ce0.8O1.9-x(SCO)单一缓冲层,并研究了不......
通过740~820℃之间进行低温成相,分别在氩气和空气中LaAlO3(LAO)单晶基底上沉积得到了有较大应用前景的涂层导体SmBiO3(SBO)缓冲层......
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采用化学溶液沉积法(CSD)在Au/Ti/SiO2/Si衬底上通过自组装生长制备了BiFeO3-NiFe2O4(BFO-NFO)多铁性复合薄膜.X射线衍射图谱(XRD)......
通过对用化学溶液法制备硫化镉薄膜的微观生长过程和机理的研究， 建立一种在溶液中进行超声波化学制备硫化镉半导体薄膜的方法． 用扫......
电流变液(Electorheological fluids,简称ERF)是一种新型的智能材料,它一般是由微米或纳米级的介电颗粒分散在绝缘油中形成的悬浮......
近年来，随着碳纳米管和石墨烯的可饱和吸收体的发展和应用越来越受到关注，研究者将目光聚焦在一些新型材料的可饱和吸收体并进行理论......
本文合成了辛基三氯硅烷(OTS)，全氟己基三氯硅烷(FHTS)，全氟辛基三氯硅烷(FOTS)三种结构的抗粘材料。采用溶液沉积的方法将合成的抗......
最近，美国西北太平洋国家实验室(PN—NL)开发了简易而廉价的溶液沉积法氧化钛涂层工艺。溶液沉积法工艺原开发用于防止在常规的光照......
采用溶液沉积法,即将前驱体溶液加至基体表面,该前驱体至少由第一金属氧化物、第一金属氢氧化物或二者的混合物组成[如ZnO、Zn（OH）2......
Characterization and Electrochemical Properties of LiMn2O4 Thin Films Prepared by Solution Depositio
LiMn_2O_4 薄电影被答案免职用醋酸锂准备并且，乙酸锰作为原料，阶段体质和表面形态学被 X 光检查衍射和扫描电子显微镜学观察。薄电......
美国西北太平洋国家实验室（PN-NL）开发出简易而廉价的溶液沉积法氧化钛涂层工艺。溶液沉积法工艺原开发用于防止在常规的光照下紫外......
用sol-gel法和丝网印刷法制备多孔TiO2薄膜,溶液沉积法制备MgO/TiO2复合薄膜.研究了复合薄膜的表面形貌、断面结构、厚度等性能;组......
