离子刻蚀技术相关论文
我们利用胶体刻蚀和选择性功能化相结合的方法容易的构建了多段节的条形码纳米棒。首先，以胶体晶体为掩板结合等离子刻蚀技术构......
金纳米粒子聚集体在生物标记、化学传感器和痕量物质检测中表现出优异的应用特性。制备金纳米粒子聚集体的方法有异电性电解质......
在传统的纳米压印过程中，为了得到高分辨率图案，通常需要使用具有纳米结构的模板，这就增加了构筑成本，限制了纳米压印在实际中的应......
本文选取聚甲基丙烯酸甲酯。甲基丙烯酸环氧丙酯(P(MMA-GMA))作为波导材料，利用有效折射率法计算了倒脊形波导单模传输条件，根据......
该文研究了六方GaNLED制作工艺技术，包括P型层的活化技术，反应离子刻蚀技术，P型GaN和N型GaN欧姆接触电极的制备技术等。研制的LED工作......
用XPS研究了渗硼磨损表面的成分、元素价态及其随深度的变化。结果表明，磨损表面形成B2O3和铁的氧化物；随着深度的增加、B2O3和铁的......
本文将着重阐述等离子刻蚀技术在制作超大规模集成电路中精细掩模的优越性及工艺原理。然后结合介绍等刻设备LFE501的特性和具体实......
目前国内外出现的几种离子刻蚀技术－等离子体刻蚀，反应离子束刻蚀，离子束铣，聚焦离子束刻蚀等分别作了详细介绍，并指出今后离子刻蚀技术......
