FCVA相关论文
Diamond-like carbon (DLC) films with high sp3 C–C bonding percentage are currently referred to as ta-C (tetrahedral amo......
Research on Unusual Cathode Erosion Patterns in the Process of Filtered Cathodic Vacuum Arc Depositi
The cathode spot is crucial to vacuum arc technology[1], the cathode spot theories has been widely studied. However, Rel......
Nitrogen doped tetrahedral amorphous carbon (ta-C:N) thin films have been interesting for electrochemical analysis since......
Fabrication of large area tetrahedral amorphous carbon (ta-C) films by multi-cathode filtered vacuum
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有不同厚度的像钻石的碳(DLC ) 电影被过滤阴极真空弧(FCVA ) 扔。Vis-Raman 和分光镜的 ellipsometry 被采用分析 DLC 电影的结构......
用真空阴极过滤电弧(Filtered Cathode Vacuum Arc,FCVA)法制备厚度分别为50 nm,30 nm,10 nm,5 nm,2 nm的类金刚石(DLC)薄膜,利用......
在中国国家自然科学基金重大项目《先进电子制造中的重要科学技术问题研究》资助下，针对2nm厚度的DLC薄膜的制备和磁头、磁盘间的吸......
滤质阴极真空镀膜简称FCVA技术是一种国际上先进的镀膜技术。利用滤质阴极真空镀膜(FCVA)技术生产的纳米级非晶金刚石薄膜最薄可以......
用CETRUMT4摩擦磨损试验机对比磁过滤阴极真空弧源和多弧离子镀方法制备的CrN涂层在往复滑动条件下的摩擦磨损行为,用X射线衍射、......
采用FCVA方法制备厚度分别为50nm、30nm、10nm、5nm、2nm的DLC薄膜，利用可见光拉曼光谱分析薄膜的G峰位置、Id／Ig和Ag／Ad，发现随着薄膜......
利用磁过滤阴极真空弧沉积系统在硅片及以硅片为基底的2种弹性体材料表面沉积厚度为2．7nm的DLC膜，采用原子力显微镜和拉曼光谱仪对薄......
利用离面双弯曲磁过滤阴极真空弧沉积系统,在单晶硅片上制备类金刚石薄膜.采用原子力显微镜观察薄膜表面形貌,采用激光拉曼光谱仪......
铝合金具有密度低、比强度高和易成型等优异性能,是发动机活塞的理想材料。但由于铝合金表面硬度低、耐磨性和耐腐蚀性差,全铝制活......
采用过滤真空阴极直流弧源(Filtered Cathodic Vicuum Arc Deposition,FCVA)方法沉积超硬(>6000HV)超厚(微米级)的DLC/DLC多层薄膜......
采用磁过滤阴极真空弧源(FCVA)沉积技术,在高速钢(HSS)基体上沉积TiAlN薄膜,用显微硬度计测定TiAlN薄膜的硬度和厚度,用X射线衍射(......
采用磁过滤阴极真空弧源（FCVA）沉积技术，通过改变氮气流量在硬质合金基体上沉积了TiAlN薄膜，用显微硬度计测定了TiAlN薄膜的硬度和厚度......
