TbDyFe薄膜相关论文
采用磁控溅射方法利用镶嵌靶材制备非晶TbDyFe 薄膜,然后分别在150,300,450,550 ℃ ℃ ℃ ℃ 下退火,研究了热处理对TbDyFe 薄......
巨磁阻抗(Giant Magneto-impedance,GMI)效应是当今磁电子学领域的研究热点之一,在信息记录和高灵敏度微型磁传感器等领域具有广阔的应......
将600℃退火后的超磁致伸缩材料(Tb0.27Dy073)0.3Fe0.7薄膜作为Ni0.2Fe141S0.2Mn0.4Mo5.1三明治膜的基底,制备出四层膜.结果表明:......
采用磁控溅射法制备了TbDyFe超磁致伸缩非晶薄膜,研究了真空热处理退火及软磁性Fe薄膜的交换耦合作用对TbDyFe超磁致伸缩的低场磁......
为实现高灵敏度、低温漂的高性能电流传感器,提出将声表面波技术与磁致伸缩效应相结合的电流检测方法,分析了其敏感机理并改善其温......
研究了SmCo薄膜的复合及热处理对TbDyFe薄膜磁性及磁致伸缩性能的影响.XRD分析表明制备态的TbDyFe薄膜为非晶态,在450℃退火后,样......
采用直流磁控溅射工艺制备TbDyFe磁致伸缩薄膜,通过考察薄膜成分及其微结构,分析研究了溅射功率对薄膜磁致伸缩性能的影响。结果表明......
采用磁控溅射制备TbDyFe非晶薄膜,系统研究了不同温度和时间真空热处理对薄膜结构与磁学性能的影响。当热处理温度高于450℃时,薄膜......
Effects of substrate temperature and annealing treatment on the microstructure and magnetic characte
一系列 TbDyFe 电影被 DC 磁控管劈啪作响准备。阶段结构和样品电影的磁性上的底层温度和退火的温度的效果被调查。退火的处理在微......
采用磁控溅射方法利用镶嵌靶材制备非晶TbDyFe薄膜,然后分别在150,300,450,550℃下退火,研究了热处理对TbDyFe薄膜性能的影响.结果......