二次离子质谱分析相关论文
利用二次离子质谱仪对多晶硅/氧化硅界面进行分析,发现多晶硅/氧化硅界面不是突变的,而存在着一个过渡区;根据多晶硅薄膜的成核理......
一、引言二次离子质谱(SecondaryIon Mass Spectrometry)是一种用于分析固体材料表面组分和杂质的分析手段.通过一次离子溅射,SIMS......
用背散射/沟道、溅射剥层/背散射和二次离子质谱方法分析了分子束外延生长的Si/GexSi1-x多层膜.由2 MeV4He+离子背散射/沟道分析,......
提出了一种基于二次离子质谱分析技术的离子束流剖面分布的离线诊断方法,具有分辨率高、可同时给出束流剖面分布和成分信息的特点.......
在室内气氛中,吸烟释放出的颗粒物是倍受关心的污染源之一.本工作运用高性能静态二次离子质谱(TOF SIMS)实验研究了模拟吸烟释放的......
借助ＳＩＭＳ技术，系统地分析了８０ＫｅＶ，２．５×１０１４、５×１０１４、１×１０１５、２×１０１５和３×１０１５ｃｍ－２ＢＦ＋２注入多晶硅栅在９００℃、３０ｍｉｎ热退火条件下，氟在多晶硅栅中的分布剖面，并对氟在多晶硅和二氧化硅中的......
采用二次离子质谱分析手段,检测半导体晶片SiO2钝化膜中钠离子的浓度分布,采用标样法,计算得出相对灵敏度因子,给出浓度随深度的定......
单片光电集成器件(OEICS)是将光器件和电器件两种性能、结构完全不同的器件集成在同一衬底上,需要解决光电兼容的问题,因此至今尚......
