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The strong absorption of materials in the extreme ultraviolet (EUV) above ~50 nm has precluded the development of effici......
利用琼斯矩阵分析了大角度入射情况时薄膜诱导的偏振像差，通过理论推导提出了减小薄膜诱导偏振像差的膜系设计方法，即在满足最基本的......
本文提出发展蚀刻二元元件的工艺,其中最重要的是选择适当的蚀速比,它是制作具有连续厚度分布的浮雕型光刻全息图的关键,文中给出......
提出了一种以生产率、剂量精度与激光器使用成本三者最佳匹配为优化目标的步进扫描投影光刻机剂量控制参量优化新算法及其数学模型......
面对可用焦深日益缩短的趋势,高精度的焦面控制技术显得尤为重要。针对双工件台光刻机中采用的焦面控制技术,介绍了基于偏振调制的......
定义了硅表面上硅和二氧化硅的横向腐蚀速率，系统地测量了硅(100)晶面上的硅和二氧化硅在40％(质量分数)氟化铵水溶液中的横向与纵向......
