等离子蚀刻相关论文
为了替换湿法蚀刻技术,因而等离子蚀刻技术受到注意。最初,根据圆筒形等离子蚀刻装置,剥掉光致抗蚀剂,活跃地进行丁关于多晶硅、......
本文提出发展蚀刻二元元件的工艺,其中最重要的是选择适当的蚀速比,它是制作具有连续厚度分布的浮雕型光刻全息图的关键,文中给出......
本文阐述了黑硅太阳电池的制备工艺，并分析了利用传统制备工艺技术对黑硅太阳电池材料光电转换效率的影响的具体原因，提出具体改进方......
悬空引线的制作是挠性印制线路板制作的难点之一，需要在基材的某些区域蚀刻掉PI（聚酰亚胺）基材来满足设计的要求。目前采用的在基材上......
三栅分栅型闪存的浮栅层末梢尖端高度决定了器件在擦除时F-N隧穿电流的大小,过低的尖端高度会使电场强度过低,从而出现器件擦除电......
在电子系统中为了实现信息传输的大规模化和高速化:一是采用高速电子器件;二是采用光波导连接芯片。GeSi/Si异质结在这两方面的应......
<正> 最近,气体等离子处理技术明显进步,在SF6和CF4气体蚀刻剂的基础上,又开发了NF3蚀刻剂。用NF3蚀刻能耗低,因为N-F结合能比S-F......
