中微半导体设备(上海)有限公司的90/65纳米介质刻蚀机荣获2008年度中国半导体创新产品和技术奖.......

国内企业的篷勃发展,与近几年的国家持续支持密不可分。“十五”期间,国家科技部、发改委、工信部、财政部重点支持了光刻机、刻蚀......

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总公司位于英国威尔士New Port的Surface Technology Systems plc(STS)近日宣布推出其新产品"Pegasus"全新离子反应式深硅刻蚀机,......

以某18英寸湿法刻蚀机腔室为研究对象,建立了流-热耦合的数值分析模型,研究了刻蚀过程中工艺气体在圆筒式腔室内流速、压强、温度......

针对目前仿真数据管理技术缺少文件语义访问接口支持的问题,提出基于语义的仿真文件跨平台访问方法,并开发了一个面向刻蚀机研发中......

刻蚀是半导体工艺的核心技术。随着晶圆半径的增大及其特征尺寸的不断减小，对刻蚀工艺提出了越来越高的要求。本文以最新开发的18英......