刻蚀机理相关论文
大功率光纤激光器因其高转换效率、高可靠性、高光束质量、结构紧凑、胜任恶劣环境等特点而广泛应用于工业制造和国防军事等领域。......
钽酸锂（LiTaO3）和铌酸锂（LiNbO3）拥有出色的各项性能,例如热释电、光电、压电等,从而具有很大的科研价值和广泛的应用空间。人们对于由......
相变存储器(Phase Change Random Access Memory,PCRAM)是一种具有优良性能的新型非易失性存储技术,具有良好的应用前景。相变材料......
铬掺杂锑化碲(Cr-SbTe)是一种新型相变存储材料,它与传统锗锑碲(GST)相变材料相比,具有稳定性高,功耗低,操作速度快等优点,是下一......
本论文旨在探索利用晶体结构来控制性的构建一些具有特殊尺寸、特殊形貌和图案的高度规则的无机多级微纳结构材料，结合“自上而下”......
首先综述了相变材料等离子体刻蚀技术的研究进展,然后讨论了影响相变材料等离子体刻蚀的主要工艺参数,如线圈功率、腔体气压、偏压......
工程陶瓷在国防工业、航空航天、电子信息以及日常生活中的应用越来越广泛。传统的机械加工方法很难对常见的工程陶瓷如石英陶瓷、......
提供了在镜面抛光Si衬底上沉积平滑的纳米金刚石（NCD）薄膜的方法。采用微波等离子体化学气相沉积（CVD）系统，利用H2、CH4和O2为前驱气体，......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
分别采用直流辉光、微波和电子回旋共振3种氧等离子体对CVD金刚石膜表面进行了刻蚀．利用扫描电子显微镜对三种等离子体刻蚀后金刚石......
随着微纳米科学与技术的不断发展,制造业开始向小型化、精密化方向转换,促使微纳结构的应用领域也越来越广。在模具上制备微结构,......
学位
化学辅助离子束刻蚀属于干法刻蚀的一种,可用来对物理器件进行微细加工。这种干法刻蚀方法是在真空环境中加入反应气体利用离子源......
提出了一种利用普通光刻机获得亚微米、深亚微米刻蚀掩蔽图形的方法：二氧化硅膜过腐蚀法。利用该方法形成的掩蔽图形实现了扩磷多晶......
采用第一性原理分子模拟计算方法对氢、氧原子刻蚀石墨相的过程进行分子动力学仿真,分析了2种原子在石墨相上的吸附过程及刻蚀反应......
化学气相沉积（CVD）法是制备大面积、高质量石墨烯材料的主要方法之一,但存在衬底转移和碳固溶等问题,本文选用蓝宝石衬底弥补了传统C......
