基体负偏压相关论文
本文采用多弧离子镀技术在高速钢表面制备CrAlN 涂层,对涂层进行24 小时铜加速醋酸盐雾实验,并在三维光学数字显微镜下观察涂层表......
Si3N4是一种介电材料,SiC是一种半导体材料,两者的结合将可能是一种具有宽的带隙光学和电学性质的超硬材料.本文采用微波-ECR等离......
刚玉结构Al-Cr-O薄膜是具有六方紧密堆垛结构的薄膜,与α-Al2O3薄膜性能类似,具有室温和高温硬度高、电绝缘性高、化学稳定性好、......
采用直流磁控溅射镀膜技术以304不锈钢为基体在不同基底负偏压(0、100V、150V、200V和250V)下制备掺杂铜的纳米结构类金刚石薄膜(C......
采用直流等离子体增强化学气相沉积技术（DC-PECVD）,通过控制基体负偏压的变化在YG8硬质合金基体上制备一系列类金刚石涂层。选用扫描......
采用中频非平衡磁控溅射工艺，在316L不锈钢、高速钢和硬质合金3种基体材料上制备Ti／TiN／Ti（C，N）膜系的硬质薄膜。通过改变工作气氛、基体......
采用真空阴极电弧制备了TiAlN涂层，研究了N2气压和基体负偏压对涂层硬度的影响规律，分析了涂层的致硬机理，探讨了硬度对摩擦学性能的......
采用电弧离子镀技术在Si基体上沉积了CrN薄膜。利用扫描电镜观察薄膜的表面和截面形貌,通过Image-ProPlus图像处理软件统计扫描电......
与常规镀膜技术相比，磁过滤真空离子镀技术具有无污染、色泽均匀、致密度高、耐蚀、耐磨等特点，其在装饰加工领域的应用日益丰富。本......
采用多孤离子镀技术在齿轮材料40Cr基体上制备Ti/N与Ti/Al/N复合膜层.在-定范围内改变基体负偏压,观察相应膜层的形貌和性能变化,......
