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介绍了半导体圆片存在的各种污染杂质的类型和去除方法,并概要总结了半导体圆片的清洗技术,对半导体圆片的湿法和干法清洗特点和去......
随着微电子技术及工艺的飞速发展,湿法清洗技术越来越暴露出其一定的局限性。然而,干法清洗技术不但能够避免湿法清洗带来的环境污......
分析表明,微电子产品在制造过程中由于污染物的影响,降低了合格率,需要进行有效的清洗。阐述微电子工艺中的湿法清洗、干法清洗技......
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简要介绍了硅片表面污染物杂质的类型，综述了传统湿法清洗及干法清洗对硅片表面质量的影响，以及近年来清洗技术和理论的研究发展及现......
