成像干涉光刻相关论文
传统光学光刻技术(OL)由于其固有的限制,虽然可对任意图形成像,但分辨力较低.无掩模激光干涉光刻技术(IL)的分辨力可达λ/4,却局限......
掩模投影成像干涉光刻技术以在很小或几乎不增加光刻系统成本的基础上来提高光刻分辨率为目的,充分利用系统的有限孔径,将掩模图形不......
成像干涉光刻技术(IIL)具有干涉光刻技术(IL)的高分辨力和光学光刻技术(OL)产生任意形状集成电路特征图形的能力。在IIL中,按掩模图形的不......