微光刻相关论文
本文重点介绍微光刻技术图形数据处理及数据转换体系.包括微光刻技术需要处理的图形数据类型,常用的图形数据处理及图形编辑软件,......
中国科学院微电子研究所微细加工与纳米技术研究室拥有一个由美国GCA3600F图形发生器、GCA3696分步重复精缩机、日本JEOLJBX6AⅡ电......
为单个房间的控制封装在 microchannels 内产生 hydrogel 微观结构的一条 microfluidic 途径被开发。方法基于允许的修改显微镜设......
激光光刻是加工微光学及二元光学掩模的主要手段。光刻的最细线宽对所加工的二元微器件性能起决定作用。本文导出了会聚的高斯光束......
评述了微电子技术的关键工艺技术-微光刻与微/纳米加工技术，回顾了中国制版光刻与微/纳米加工技术的发展历程与现状，讨论了微光......
微光刻图形数据处理与转换系统是微光刻技术的一个重要部分，也是微电子工艺技术中的一个重要环节。随着微电子技术不断从微米级向深......
Sigma-C和Mentor Graphics公司共同为IC设计团体带来了曙光。设计者们一直希望他们的设计进入制版工艺前,能在IC布局中发现并修正......
2下一代光刻技术虽然光学光刻技术为微电子技术突飞猛进的发展立下了汗马功劳,创造了一次又一次的人间奇迹,然而目前集成电路特征......
根据专业市场人土分析，我国目前电子产品制造业产业链还属于建设初期，市场中的一个明显特点是通用组件充斥市场，而一些专用和特种高端......
1982年,IBM公司的研究者首次报道将激励激光器用于半导体光刻。从此,激励激光器进入了用于接触曝光和掩模制造等的商品系统中。然......
计算模拟了激光束和电子束直写加工的掩模畸变,并分别用理想掩模和有畸变的掩模进行投影光学光刻过程的模拟和比较,讨论了光学邻近......
采用短波长光源，制作小于０．５μｍ线宽的ＶＬＳＩ芯片，对准精度必须是０．１μｍ甚至更小。该报告介绍掩模对准台在机械方面的改进，诸如Ｘ、Ｙ向位移精度的提高，Ｚ向......
焦深大小将直接影响激光光刻加工的最细线宽的线条的边缘倾角从而影响被加工器件性能，传统的几何光学焦深概念对有光刻胶存在的激光......
叙述了利用固体靶X射线光源实验X射线微光刻的方法，给出了X射线腌膜、抗蚀剂及X射线曝光的工艺过程和实验结果。......
掩模投影成像干涉光刻技术以在很小或几乎不增加光刻系统成本的基础上来提高光刻分辨率为目的，充分利用系统的有限孔径，将掩模图形不......
回 回 产卜爹仇贱回——回 日E回。”。回祖 一回“。回干 肉果幻中 N_。NH lP7-ewwe--一”＄ MN。W;- __._——————》 砧叫]们......
随着科学技术的进步,液晶显示器将最终取代显像管显示器而成为主流。由于LCD本身不发光,需要背光模组来实现其显示功能。在背光模......
