微光刻相关论文
激光光刻是加工微光学及二元光学掩模的主要手段。光刻的最细线宽对所加工的二元微器件性能起决定作用。本文导出了会聚的高斯光束......
2下一代光刻技术虽然光学光刻技术为微电子技术突飞猛进的发展立下了汗马功劳,创造了一次又一次的人间奇迹,然而目前集成电路特征......
<正>2001040102纳米光刻技术[中]/罗先刚…//物理.-2000,29(6).-358—363,3502001040103用于高分辨大视场微光刻的全息照相技术研......
根据专业市场人土分析，我国目前电子产品制造业产业链还属于建设初期，市场中的一个明显特点是通用组件充斥市场，而一些专用和特种高端......
计算模拟了激光束和电子束直写加工的掩模畸变,并分别用理想掩模和有畸变的掩模进行投影光学光刻过程的模拟和比较,讨论了光学邻近......
叙述了利用固体靶X射线光源实验X射线微光刻的方法，给出了X射线腌膜、抗蚀剂及X射线曝光的工艺过程和实验结果。......
掩模投影成像干涉光刻技术以在很小或几乎不增加光刻系统成本的基础上来提高光刻分辨率为目的，充分利用系统的有限孔径，将掩模图形不......
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随着科学技术的进步,液晶显示器将最终取代显像管显示器而成为主流。由于LCD本身不发光,需要背光模组来实现其显示功能。在背光模......
